Firma D2S z Doliny Krzemowej ujawniła niedawno, że poczyniła ogromne kroki w segmencie wytwarzania układów krzemowych, które napędzają Wasze komputery, czy smartfony. Opracowała bowiem system komputerowy o nazwie TureMask ILT, który po raz pierwszy w historii rozwiązuje problem tak zwanej „odwrotnej litografii” (ILT).
Czytaj też: LHC może pomóc w odkryciu stanu skupienia materii przewidzianego przez Einsteina
Jej opanowanie do perfekcji może przyspieszyć proces tworzenia układów scalonych i pozwolić fabrykom półprzewodników produkować bardziej zaawansowane układy bez modernizacji sprzętu. Sama litografia odwrotna sporo już mówi na swój temat w nazwie – to w rzeczywistości odwrócony proces wytwarzania układów krzemowych. W nim, zamiast wykorzystywać „na ślepo” światło przechodzące przez określoną fotomaskę na wafle krzemowe (co jest nieefektowne i trudne do przewidzenia), oblicza się konkretną fotomaskę, która wytworzyłaby je z możliwie największą precyzją.
Takie rozwiązanie nie jest nowa, ale zwykle sprowadzało się do całych tygodni, w których wiązki elektronów odwalały swoją robotę nad fotomaskami. Jednak nowe technologie pozwalają wykorzystać nie kilka, czy kilkanaście wiązek, a całe tysiące, które przyśpieszają proces do około 6 godzin bez względu na stopień zaawansowania projektu.
Te wcale nie są kluczowe, bo samo zaprojektowanie fotomaski zajmuje tygodnie, ale w połączeniu z systemem TureMask ILT czas ten skraca się do jednego dnia. To nic innego, jak system komputerowy oparty na GPU oraz oprogramowanie, które pozwala na obsługę całego układu, ponieważ łączy wiele procesorów i procesorów graficznych systemu w taki sposób, że działają one jak pojedynczy procesor.
D2S i producent mikroukładów pamięci przetestował system, tworząc maski fotograficzne dla warstw procesowych wymagających najbardziej rygorystycznych tolerancji. Nowy system ILT może wytwarzać wzory na waflu o ponad 100 procent lepszej tolerancji na zmiany ostrości i dawkowania niż dzisiejsza technologia.
Pytanie tylko, czy obecnie ILT ma sens, kiedy najwięksi gracze na rynku korzystają z technologii EUV, która wyprzedza tą tradycyjną litografię o lata świetlne. Możliwe jednak, że z czasem i ci producenci będą mogli wykorzystać nowinkę od D2S.
Czytaj też: Zaobserwowano jak oddziaływania akustyczne zmieniają materiały na poziomie atomowym
Źródło: Spectrum
