Reklama

Rosja próbuje się uniezależnić. Ambitne plany dotyczą półprzewodników

24 lutego Rosja zaatakowała Ukrainę, co spotkało się z nałożeniem sankcji obejmujących między innymi sektor produkcji półprzewodników. Rosja w dużej mierze straciła dostęp do tych komponentów, a teraz próbuje zyskać niezależność.

Pomóc ma skaner litograficzny zdolny do wytwarzania urządzeń z wykorzystaniem technik fabrykacji klasy 7nm. Prace nad projektem trwają, choć na ich efekty przyjdzie nam jeszcze nieco poczekać: gotowy produkt ma się pojawić w 2028 roku. Według zapowiedzi urządzenie będzie wydajniejsze niż Twinscan NXT:2000i stworzony przez ASML, którego rozwój trwał ponad dekadę.

Czytaj też: Okazalsza żywotność i szybsze ładowanie – oto jak naukowcy ulepszyli akumulatory półprzewodnikowe

Rosyjskie władze zaczęły też starania mające na celu stworzenie do 2030 roku własnej technologii produkcji układów scalonych w klasie 28nm. Najbardziej zaawansowana fabryka układów scalonych w tym kraju jest w stanie wytwarzać półprzewodniki w procesie 65 nm. Sankcje sprawiają, iż Rosjanie muszą zaprojektować i zbudować własne maszyny do produkcji płytek krzemowych, jeśli chcą korzystać z węzła 28nm.

Nowoczesny skaner litograficzny, który może przetwarzać płytki krzemowe w technologii procesowej klasy 7nm, składa się między innymi z wysokowydajnego źródła światła, zaawansowanej optyki i precyzyjnej metrologii. Rosyjski Institute of Applied Physics przekonuje jednak, iż możliwe będzie szybkie stworzenie takiego narzędzia.

Do tej pory półprzewodniki były dostarczane do Rosji głównie z zewnątrz

Co wiemy na jego temat? Rosjanie zamierzają zastosować źródło światła o mocy >600W z długością fali naświetlania 11,3nm, co wymaga znacznie bardziej zaawansowanej optyki od obecnie dostępnej. Narzędzie ma być przenośne i prostsze w budowie, ponieważ źródło światła będzie miało stosunkowo niewielką moc.

Czytaj też: Technologiczny cios w Rosję. Tym razem mowa o decyzję NVIDIA

Terminy proponowane przez Rosjan wydają się nieco zbyt optymistyczne. Na przykład firma ASML zaprezentowała swój pierwszy sprzęt do litografii zanurzeniowej, Twinscan XT:1250i, pod koniec 2003 roku, zapowiadając dostarczenie go w trzecim kwartale 2004 roku. W 2008 ogłosiła natomiast 32nm Twinscan NXT:1950i, którego dostawy do klientów rozpoczęły się w 2009 roku. Następnie potrzebne było około dziewięciu lat, aby w 2018 roku wydać narzędzie Twinscan NXT:2000i DUV ze wsparciem dla technologii 7nm i 5nm. Ostatecznie ASML potrzebowała 14 lat na przejście z 65nm na 7nm.