Rosja ujawniła nową mapę drogową rozwoju technologii litografii EUV o długości fali 11,2 nm, która ma obejmować okres do 2037 roku. Projekt zakłada trzy etapy rozwoju – od budowy maszyny zdolnej do pracy w litografii 40 nm w 2026 roku, aż po systemy sub-10 nm w latach 2033–2036.
Za opracowanie planu odpowiada Instytut Fizyki Mikrostruktur Rosyjskiej Akademii Nauk, a sama koncepcja znacząco różni się od rozwiązań stosowanych przez ASML. Rosjanie nie chcą kopiować istniejącej architektury, lecz oprzeć się na alternatywnych technologiach: hybrydowych laserach półprzewodnikowych, źródłach światła plazmowego opartych na ksenonie oraz lustrach z rutenu i berylu.
Zastosowanie ksenonu zamiast kropli cyny, jak w maszynach ASML, ma wyeliminować problem zanieczyszczeń niszczących maski i zmniejszyć koszty utrzymania.
Pierwszy system, planowany na lata 2026–2028, ma obsługiwać procesy 40 nm. Będzie korzystać z dwulustrzanej optyki, oferować dokładność nakładania warstw na poziomie 10 nm i wydajność przekraczającą 5 wafli na godzinę.
W drugim etapie (2029–2032) przewidziano maszynę z czterema lustrami, zdolną do pracy w litografii 28 nm, z potencjałem zejścia do 14 nm. Urządzenie ma zapewniać precyzję 5 nm oraz wydajność ponad 50 wafli na godzinę.
Ostatnia faza, planowana na lata 2033–2036, zakłada powstanie systemu sześciolustrowego, celującego w procesy sub-10 nm. Przy dokładności 2 nm i polu ekspozycji 26 x 2 mm wydajność ma przekroczyć 100 wafli na godzinę.
Wybór niestandardowej długości fali 11,2 nm rodzi poważne wyzwania technologiczne. Oznacza to konieczność stworzenia od podstaw nowych narzędzi, powłok lustrzanych, źródeł światła, resistów czy systemów zasilania. Eksperci podkreślają, że tego rodzaju projekty wymagają nie tylko ogromnych nakładów finansowych, ale też lat badań i testów, a ryzyko niepowodzenia pozostaje wysokie.
Choć rosyjscy naukowcy wskazują na potencjalne korzyści, takie jak niższa złożoność w porównaniu z immersyjną litografią DUV i brak konieczności stosowania wielokrotnego patterningu, wiele wątpliwości pozostaje bez odpowiedzi.
Projekt, jeśli uda się go zrealizować, nie będzie konkurował z najbardziej zaawansowanymi maszynami ASML pod względem wydajności, lecz ma być prostszy i tańszy w produkcji oraz utrzymaniu. Zamiast celować w największe faby półprzewodników, rosyjska platforma mogłaby znaleźć zastosowanie w mniejszych fabrykach tworzących układy scalone, oferując dostęp do nowoczesnych technologii w niższej cenie.
Dzięki temu Rosja mogłaby zwiększyć samowystarczalność w produkcji układów scalonych i potencjalnie zaoferować swoje rozwiązania na rynkach, które obecnie nie mają dostępu do maszyn ASML.
Nowa mapa drogowa Rosji wygląda ambitniej i bardziej realistycznie niż wcześniejsze zapowiedzi, ale jej wykonanie pozostaje dużym znakiem zapytania. Jeśli jednak projekt uda się zrealizować, mógłby stać się ciekawą alternatywą dla zachodnich rozwiązań i wpłynąć na globalny rynek litografii. Na razie jednak to tylko odważna koncepcja, której realizacja wymaga ogromnych inwestycji i przełamania licznych barier technologicznych.
źródło: Tom’s Hardware, opracowanie własne
