Chiński rynek półprzewodników może być świadkiem kolejnego przełomu. Według doniesień SMIC rozpoczęło testy pierwszej, w pełni krajowej maszyny litograficznej DUV, opracowanej przez start-up Yuliangsheng z Szanghaju. Jeśli próby zakończą się sukcesem, urządzenie może stać się fundamentem do dalszego skalowania produkcji chipów w Chinach.
Dotychczas SMIC było mocno uzależnione od holenderskiej firmy ASML, która dostarczała mniej zaawansowane narzędzia DUV, w tym wczesne wersje litografii immersyjnej. To właśnie one pozwoliły chińskiej firmie na osiągnięcie produkcji w procesie 7 nm. Jednak amerykańskie restrykcje eksportowe skutecznie odcięły dostęp do nowoczesniejszych technologii, zmuszając Chiny do szukania krajowych rozwiązań.
Według raportu Financial Times, obecnie prowadzone testy skupiają się na produkcji w litografii 7 nm, ale nowe urządzenia Yuliangsheng w teorii mogą skalować się nawet do poziomu 5 nm. Problemem pozostają jednak bardzo niskie uzyski – wynika to z konieczności stosowania wielokrotnego patterningu w DUV, co zwiększa ryzyko błędów w pozycjonowaniu masek.
Mimo to dla chińskiego przemysłu kluczowe jest zwiększenie wolumenu produkcji, nawet kosztem niższej efektywności. Podobną strategię SMIC stosowało już wcześniej, stawiając na ilość zamiast idealnych uzysków. Napędza to przede wszystkim rosnący popyt na układy wykorzystywane w sektorze sztucznej inteligencji, gdzie lokalni producenci starają się kilkukrotnie zwiększyć produkcję chipów, by sprostać potrzebom rynku.
Źródło: Financial Times
